平台式UV-LED曝光单元参数对印版网点的量化分析

在平台式UV-LED曝光单元中，曝光参数起着至关重要的作用，这些参数主要涵盖扫描速度、扫描次数以及 LED 光源能量。为了能够更加清晰、全面且深入地阐述这三个参数对曝光后印版网点表现所产生的影响，本文特意引入了一系列相关的概念及指标，以便进行更为精准的分析。 首先，我们引入印版单位面积接收 UVA 总能量这一概念。它指的是在完成主曝光后，单位面积印版上所接收 UVA 照射的总的能量。

从原理上来说，LED光源扫描通过单位面积印版发出的总能量是由LED光源能量与照射时间共同决定的。具体而言，若LED光源单位面积发出的总能量相同，并且假设UV光在传播相同距离后其能量变化也相同，那么到达相同厚度印版表面的UV光总能量就是相同的，也就是说印版单位面积接收 UVA 总能量相同。而在实际情况中，扫描速度、扫描次数以及LED光源能量这三个参数的变化会对印版单位面积接收UVA 总能量产生直接影响。

当扫描速度越慢时，LED光源在单位面积印版上停留的时间就越长，照射时间也就越长；扫描次数越多，意味着印版接受光照的累积量越大；LED光源能量越大，同样会使印版接收到更多的能量。这些因素综合起来，就会导致单位面积接收 UVA 总能量越高。反之，如果扫描速度快、扫描次数少且LED光源能量小，那么单位面积接收 UVA 总能量就会越小。

其次，网点下凹现象是印版网点表面形态异常中一个常见且棘手的问题。长期以来，业内一直面临着一个难题，就是无法准确地描述网点下凹的剧烈程度。为了解决这一问题，本文引入了网点下凹深度这一概念。具体的测量方法是使用共焦激光光学显微镜获取网点3D图像的横截面图，在这个横截面图中，网点边缘到网点中心最低点的垂直距离就是网点下凹深度。通过这个数值，我们可以直观地对比不同网点下凹情况的严重程度。例如，当我们测量得到某网点下凹深度为4.665 微米，而另一个网点下凹深度为1.696 微米时，很明显，下凹深度为4.665 微米的网点其下凹情况更为严重，这种量化的方式为我们评估网点质量提供了重要依据。

最后，在印刷生产这个典型的大规模复制过程中，印版作为重要的耗材之一，需要满足两个关键要求。一方面，要确保印出的网点形态规则，这样才能保证印刷品的质量；另一方面，还要保证网点可以被持久稳定地复制，以满足大规模生产的需求。为了衡量这一性能，本文引入了网点耐摩擦能力评价这一指标。具体的测试方法是，让摩擦刮刀以一定的速度在150LPI 线性 5%网点上进行往复运动，并且按照指定的次数进行操作。

同时，在这个过程中不断增大刮刀上方砝码的重量，以此来改变印版所承受的压力。持续这个过程，直到被刮擦的网点出现掉点现象为止。然后，记录此时的砝码重量以及在5倍放大显微镜下一个视野内的掉点个数。通过这种方式，我们可以模拟和表征版材在印刷过程中受到压力及摩擦后网点的耐印率情况，从而为评估印版质量和优化印刷工艺提供有力的数据支持。